NanoDrop One/OneC的UV-Vis模塊檢測

UV-Vis檢測

檢測原理

UV-Vis應用檢測的波長范圍從 190nm 到 850nm，可以檢測多達 40 個波長的吸收光，吸光度顯示在屏幕上，并納入檢測報告。此模塊功能可用于檢測未知樣品，確定最佳吸收波長，或者檢測擁有多個吸收峰的樣品。

操作流程

1、在“主頁"屏幕上，選擇用戶自定義選項卡，然后點擊UV-Vis；

2、選定最多 40 個待監(jiān)測波長（或者您也可以在檢測完成后，再選定波長），以及是否使用自動化光程調整、分析波長和基線矯正；

3、吸取2μL空白對照溶液滴加到基座上，降下檢測臂（或將加入空白對照溶液的比色皿插入比色皿架）；

4、點擊Blank，等待檢測完成；

5、抬起檢測臂，使用無塵紙擦拭上下基座（或取下空白檢測比色皿）；

6、將2μL樣品滴加至基座上，降下檢測臂（或將樣品比色皿插入比色皿架）；

7、點擊檢測；

8、完成檢測后，清潔基座，點擊結束實驗，檢測結束后的初始屏幕如下所示。

UV-Vis檢測結果界面

若要查看所有的報告值，可按住選項卡，前三個輸入波長的吸光度值將顯示在檢測屏幕中，可以看到用戶選定的所有波長吸光值。下圖為示例：

注意事項

1、每次做Blank前一定要先用去離子水清潔上下基座，可保證準確；

2、擦拭用紙需采用柔軟、無屑的實驗室專用擦拭紙；

3、測量前將樣品充分混勻；

4、吸樣及加樣時避免產生氣泡；

5、針對超高濃度樣品，每次測量完畢后，用去離子水清潔上下基座，這樣可以更好地保證下一次測量的準確性；

6、同一液滴不能多次檢測，如需重測，需重新滴加同一樣品；

7、儀器遠離陽光直射和通風口，以免樣品蒸發(fā)；

8、連續(xù)測量一段時間后（30min）擦凈樣品，用去離子水清潔上下基座，然后用Buffer做Re-Blank后再檢測；

9、儀器不用時，放下檢測臂，減少灰塵；

10、不要在基座上使用氫氟酸（HF），氫氟酸會損壞石英光纖。

常見問題

1. 關于自動化光程的選擇

可選的自動化光程，允許軟件為檢測高濃度樣品而選擇最佳（更短）基座光程。

2. 關于基線矯正

可選的用戶自定義基線矯正值。

若選定基線矯正，軟件會從樣品光譜中所有波長處的吸光度值減去選定基線矯正波長處的吸光度值，矯正光散射粒子導致的任何偏移。因此，在選定基線矯正波長處的樣品光譜吸光度為零。

例如：在此模塊下，儀器選定基線矯正默認值為750nm，如果要測量樣品在 750 nm 處的吸光值，那么需要修改矯正波長或關閉基線矯正。

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